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簡介

秉承飛納台式電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看絕緣體、完全防震、性能穩定的特點,經過精心的設計,台式掃描電鏡領軍制造商荷蘭飛納公司推出了台式場發射掃描電鏡 Phenom LE,将台式電鏡的分辨率提升至優于 2.5nm。

台式場發射掃描電子顯微鏡,廣泛用于半導體、生物學、醫學、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質礦物、商品檢驗、産品生産質量控制、寶石鑒定、考古和文物鑒定及公安刑偵物證分析。

組成:

  安裝環境要求:

· 真空系統:高流速分子泵

  · 濕度要求:20%-80%

· 電子槍:肖特基場發射電子槍

  · 溫度要求:15-30 ℃

· 電磁透鏡

  · 場地要求:對震動和磁場無特殊要求

 

下載規格表

規格參數

 

Phenom Pro

Phenom ProX

Phenom LE

光學放大

20 - 135 X

20 - 135 X

20 - 135 X

電子光學放大

80 - 150,000 X

80 - 150,000 X

200 - 500,000 X

分辨率

優于 8 nm

優于 8 nm

優于 2.5 nm

電子槍

CeB6

CeB6

肖特基場發射電子槍

光學導航相機

彩色

彩色

彩色

加速電壓

5 kV - 15 kV  連續可調

5 kV - 15 kV  連續可調

2 kV - 15 kV  連續可調

真空模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

高分辨率模式

降低荷電效應模式

探測器

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

背散射電子探測器

二次電子探測器 (選配)

背散射電子探測器

二次電子探測器 

能譜探測器

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展示

案例分析

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